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产品展厅 > 型号:EF9USPM-RUⅢ 镜片反射率测定仪（日本） 型号:EF9USPM-RUⅢ |
型号:EF9USPM-RUⅢ 镜片反射率测定仪（日本） 型号:EF9USPM-RUⅢ |
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公司名称： |
武汉中西仪器试剂大全 |
| 发布日期： |
2007-12-18 |
| 所 在 地： |
国产 |
| 已获点击： |
229次 |
| 简单介绍： |
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| 采用特殊光学系，消除背面反射光。不必进行背面的防反射处理，可正确测定表面的反射率。 |
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| 镜片反射率测定仪（日本） 型号:EF9USPM-RUⅢ |
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特征
消除背面反射光
采用特殊光学系，消除背面反射光。不必进行背面的防反射处理，可正确测定表面的反射率。
可测定微小领域的反射率
用对物镜对焦于被测面的微小区域(φ60μm)，可测定镜片曲面及镀膜层脱落。
测定时间短
使用Flat Field Grating(平面光栅)和线传感器的高速分光测定，可迅速实现再现性很高的测定。
ＸＹ色度图、L＊a＊b＊测定可能
以分光测定法为基准，从分光反射率情况可测定物体颜色。
Hard Coat(高强度镀膜)膜厚测定可能
用干涉光分光法，可以不接触、不破坏地测定被测物的膜厚(单层膜)。
主要用途
各种透镜（眼镜透镜、光读取头镜片等）
反射镜、棱镜以及其他镀膜部品等的分光反射率、膜厚测定（单层膜）
与原产品的主要区别
采用全新的EF9USPM-RUⅢ专用框架及设计，提高了操作性能。
受台Ｚ方向的移动范围从35mm(原产品)扩大到了85mm。
电源规格可对应AC100V以及AC220V。 (请您在下订单时注明电源规格。)
优化了软件的功能。(可显示10次测定的功能等)
XY受台移动方向增加了比例尺。
更换卤灯时不需调整灯的位置。
ＰＣ与Interface采用了ＵＳＢ式连接。
主要规格
测定波长 380nm～780nm
测定方法 与参照试料的比较测定
被测物N.A.：0.12(使用10×对物镜时)
0.24(使用20×对物镜时)
※与对物镜的N.A不同
被测物W.D.：10.1mm(使用10×对物镜时)
3.1mm(使用20×对物镜时)
被测物的曲率半径： -1R～-∞、+1R～∞
被测物的测定范围： 约φ60μm(使用10×对物镜时)：约φ30μm(使用20×对物镜时)
被测物再现性： ±0.1%以下(2σ)（380nm～410nm测定时）
±0.01%以下(2σ)(410nm～700nm测定时)
表示精度： 1nm
测定时间： 数秒～十数秒(因取样时间各异）
光源规格： 卤灯 12V100W
装置重量： 本体：约20kg(电脑、打印机除外)
光源用电源：约3kg、控制器：约8kg
装置尺寸 本体：300(W)×550(D)×570(H)mm
光源用电源：150(W)×250(D)×140(H)mm
控制器盒：220(W)×250(D)×140(H)mm
电源规格： 光源用电源：100V (2.8A)/220V AC
控制器盒：100V(0.2A)/220V AC
使用环境： 水平且无振动的场所
温度：23±5℃
湿度：60％以下、无结露
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